ASML 向 imec 交付 High NA EUV 光刻机，为亚 2nm 中试线 NanoIC 提供设备基础

3 月 19 日消息，比利时校际微电子研究中心 imec 当地时间 18 日宣布，其长期合作伙伴 ASML 已向其交付了一台高数值孔径 (High NA) 极紫外光 (EUV) 光刻系统，这款 EXE:5200 将在 imec 总部比利时鲁汶为亚 2nm 中试线项目 NanoIC 提供关键支持。

imec 此前已在 ASML 总部所在地荷兰费尔德霍芬的 ASML-imec 联合 High NA EUV 光刻实验室与 ASML 一道携手其它业界伙伴共同开拓最先进的半导体图案化技术，而新光刻机的到来将为 imec 解锁更大的研发自由与量产级能力。

imec 预计此次交付的 EXE:5200 High NA EUV 光刻系统将于 2026 年第 4 季度完成全面认证。