2月25日消息，荷兰ASML是目前唯一能量产EUV光刻机的公司，当前的EUV依然存在很多问题，特别是光源功率不足，严重限制了产能提升。
ASML日前宣布了一项重要进展，那就是将EUV光源功率翻倍提升到了1000W，实现了革命性的提升，详细的介绍可以参考之前的报道：ASML全新EUV光刻机重大飞跃！1000W功率+50％、产能+50％。
简单总结一下就是：当前EUV光刻机功率在600W左右，导致产能只有220片晶圆/小时，提升到1000W功率之后，产能将提升到330片晶圆/小时。
实现这一突破的原理在于ASML用1um的预脉冲PP取代了之前10um的预脉冲，同时锡滴喷射频率从之前每秒5万个提升到了10万个，因此可以产生更多的EUV光。
这一技术不仅可以做到1000W功率，未来还可以进一步提升到1500W甚至2000W级别，意味着EUV光刻机未来的效率和产能还会继续提升，将极大地降低EUV芯片的生产成本。
不过目前这个技术还没有量产，至少还要几年时间。
总之，ASML这次公布的EUV技术意味着他们在这方面的优势再次加强了，其他竞争者想挑战他们的难度大增。
此外，值得注意的是这次技术的问世背后，研究团队中有除了欧美的人员之外，还有多名中国研究员，论文的多个作者中有Qiushi Zhu、Yue Ma及Haining Wang，而Haining Wang不仅是排名第一的作者，也是这篇论文的演讲者。
从Haining Wang的履历来看，他20多年前获得了国家优秀自费留学生奖，2016年在美国康奈尔大学获得了博士学位，2016年加入了ASML公司，在EUV研究部门中担任了科学家及架构师，专注于研究LPP等离子体技术路线的结果和基础物理。
